晒版工艺曝光过程中的注意事项简析

    正确把握曝光时间对晒版工艺而言非常重要。曝光过度会导致一些小点子被晒丢，使得亮调层次损失；而曝光不足则又会造成空白（非图文部分）部分的分解不彻底，并且易于沾脏。因此，在晒版曝光过程中需要考虑以下因素：

    （1）选择和PS版感光胶光谱灵敏度相匹配的光源—短波长光源问（UV光源）。这样一方面可以缩短晒版的时间，另一方面还可以减少长波带来的热效应。

    （2）尽量减少自然光对PS版的影响。一般来说，采用白炽灯照明则较为安全，即使曝光完成之后也要尽量少见光，防止图文部分的再分解。

    （3）曝光时间的掌握应与显影相配合，尽量稳定不变，这有利于晒版质量。

    （4）在显影之后到印刷之前的这段时间，如果时间允许则需尽量将印版放在阴凉处自然晾干，以防止强光或高温对感光层造成损害。

    在晒版过程中，为了保证网点的准确复制还要充分注意原版与PS版紧密结合。晒版玻璃与橡皮布的不平整、灰尘的夹垫、底片上胶带、头发和脏物等杂质，以及胶片与PS版之间的真空度不够等因素，都会造成胶片和版材感光胶层的密合不良，从而导致光线通过时会产生衍射现象，使印版的网点发虚、缩小，或出现不吸墨白点，影响网点的复制，导致图像复制的再现性下降，对晒版质量会造成不可忽视的影响。此外，晒版机橡皮布老化，在一些边缘位置就会存在少量漏气，这也会导致PS版与胶片贴不紧，使得晒出的图文发虚。

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